[发明专利]金锡薄膜的制备装置和方法

摘要

一种金锡薄膜制备装置和方法，该装置包括蒸发室、公转轴、公转盘、固定轴、工件架、推杆、支撑架、滑槽、电极和蒸发舟，通过推杆的移动推动Au球和Sn球沿着滑槽滚动落到蒸发舟上从而实现AuSn薄膜的制备，本发明可以精确控制AuSn薄膜中Au和Sn的厚度和比例，得到的薄膜具有结构致密、成分分布均匀的特点，在半导体激光器封装领域具有很高的应用价值。

主权项

一种金锡薄膜制备装置，其特征在于包括蒸发室、公转轴、公转盘、固定轴、工件架、推杆、支撑架、滑槽、电极和蒸发舟，所述的公转轴的一端联接在蒸发室顶部的中央位置，另一端固定联接所述的公转盘的中心位置，公转盘中心下面通过所述的固定轴固定联接所述的工件架，；所述的滑槽通过所述的支撑架与所述的蒸发室的底部固定，两个电极与所述的公转轴对称地固定在蒸发室底部，两个电极上固定所述的蒸发舟，上端滑槽在蒸发舟上方供金属Au球和金属Sn球置放；所述的推杆与所述的公转盘相连或所述的推杆透过所述的蒸发室并由蒸发室外部控制在滑槽内移动；推杆的移动推动滑槽内的Au球和Sn球滚落到所述的蒸发舟里实现蒸镀。