[发明专利]免抛光的薄膜型磷化方法及其应用有效
| 申请号： | 201410545622.2 | 申请日： | 2014-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN104342697B | 公开（公告）日： | 2017-07-04 |
| 发明（设计）人： | 黄锡槿;周国强;丁文静;马超;林占男;戎谨;欧阳涛 | 申请（专利权）人： | 广东美芝制冷设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C22/73 | 分类号： | C23C22/73;C23C22/07 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 李志东 |
| 地址： | 528333 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了免抛光的薄膜型磷化方法及其应用，该方法包括(1)对工件进行脱脂处理，并将经过脱脂处理的工件进行水洗；(2)利用表调剂对经过水洗的工件进行表面调整处理，其中，所述表调剂含有表调剂VM 3～10Kg/m3；(3)利用磷化配成工作液对经过表面调整处理的工件进行磷化处理，其中，所述磷化配成工作液含有锰系磷化剂，所述锰系磷化剂包括THNM2磷化剂50～100Kg/m3，TH202开缸剂0.5～5Kg/m3，以及THNM9调整剂0.2～0.7Kg/m3；(4)对经过磷化处理的工件依次进行水洗处理、防锈处理和干燥处理。利用该方法能够制得致密、均匀、薄膜型的磷化膜，所得到的磷化膜表面清洁度、表面粗糙度、膜厚度一致性均呈现良好，可达到免除后续抛光处理工序的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 薄膜 磷化 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种免抛光的薄膜型磷化方法，其特征在于，包括：(1)对工件进行脱脂处理，并将经过脱脂处理的工件进行水洗；(2)利用表调剂对经过水洗的工件进行表面调整处理，其中，所述表调剂含有：表调剂VM 3～10Kg/m3；(3)于80～100摄氏度条件下，利用磷化配成工作液对经过表面调整处理的工件进行磷化处理150～220秒，其中，所述磷化配成工作液的游离酸度为2～5、总酸度为25～45，并且所述磷化配成工作液含有锰系磷化剂，所述锰系磷化剂包括：THNM2磷化剂 50～100Kg/m3，TH202开缸剂 0.5～5Kg/m3，以及THNM9调整剂 0.2～0.7Kg/m3；(4)对经过磷化处理的工件依次进行水洗处理、防锈处理和干燥处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东美芝制冷设备有限公司，未经广东美芝制冷设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410545622.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
