[发明专利]使用建模、反馈和阻抗匹配来控制蚀刻速率

摘要

本发明涉及使用建模、反馈和阻抗匹配电路来控制蚀刻速率，说明了实现蚀刻速率的方法。该方法包含接收与处理等离子体室中的工件关联的计算的变量。该方法还包含经由模型来传送所述计算的变量，以在模型的输出处产生所述计算的变量的值，识别与该值关联的计算的处理速率；并且基于所述计算的处理速率来识别预先确定的处理速率。该方法还包含：基于所述预先确定的处理速率识别要在输出实现的预先确定的变量；以及识别与所述预先确定的变量的实部和虚部关联的特征。该方法包含控制可变电路组件以实现特征，以进一步实现所述预先确定的变量。

主权项

1.一种用于实现蚀刻速率的方法，其包括：从传感器接收在射频(RF)产生器的输出测量的变量值，其中所述传感器耦结至所述射频产生器的所述输出，其中所述测量的值与处理等离子体室中的工件关联，其中所述等离子体室通过RF传输线耦结至阻抗匹配电路，其中所述RF产生器的所述输出通过RF电缆耦结至所述阻抗匹配电路；经由所述阻抗匹配电路的计算机产生的模型来传送所述测量的变量值，以在所述计算机产生的模型的输出处产生所述变量的计算的值；识别与所述变量的所述计算的值关联的计算的处理速率；基于所述计算的处理速率来识别要实现的预先确定的处理速率；基于所述预先确定的处理速率，识别要在所述计算机产生的模型的所述输出处实现的预先确定的变量；识别与所述预先确定的变量的实部关联的第一特征，其中所述第一特征是所述阻抗匹配电路内的第一可变电路组件的特征；控制所述第一可变电路组件，以实现所述第一特征，从而进一步实现所述预先确定的变量的所述实部；识别与所述预先确定的变量的虚部关联的第二特征，其中所述第二特征是所述阻抗匹配电路内的第二可变电路组件的特征；以及将信号发送给所述第二可变电路组件，以实现所述第二特征，从而进一步实现所述预先确定的变量的所述虚部。