[发明专利]一种含氟光固化单体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410483764.0 申请日: 2014-09-19
公开(公告)号: CN104262151B 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 彭健华;吴勇;刘行;蒋卫华 申请(专利权)人: 广东希贵光固化材料有限公司
主分类号: C07C69/653 分类号: C07C69/653;C07C67/287
代理公司: 北京市惠诚律师事务所11353 代理人: 周理工
地址: 528445 广东省中山*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种含氟光固化单体及其制备方法,其结构式为:其中:n≥1,m≥3;R1为氢或者甲基;R2为烷烃类、芳烃类、醚类或酯类基团。本发明提供的一种含氟光固化单体,通过对含羟基的光固化单体改性为具有表面迁移性的含氟链段,以及氟对碳链的屏蔽保护作用,使含氟的光固化单体具有了明显的抗氧阻聚的优点,在光固化体系中是非常明显的优势;同时氟原子的负电性强、C‑F键能高、表面能低,也赋予了含氟聚合物优异的憎水憎油和防污性。本发明提供了一种含氟光固化单体其制备方法,反应过程简便;反应温度温和;后处理简单,并且容易纯化。
搜索关键词: 一种 光固化 单体 及其 制备 方法
【主权项】:
一种含氟光固化单体的制备方法,其特征在于包括如下步骤:步骤1):在溶剂中先加入含羟基的光固化单体,在恒温0‑60℃的条件下搅拌,通入氮气,并加入金属氢化物,得混合物;步骤2):在步骤1)中的混合物中滴加氟类化合物进行反应4‑12个小时;步骤3):反应完成后,过滤除去固体杂质,水洗、分液3次除去盐类,旋蒸除去溶剂、水和过量的氟类化合物,加少量溶剂和干燥剂,接着过滤和旋蒸除去剩余的溶剂、水和氟类化合物,最后真空干燥除去溶剂、水和氟类化合物得到纯净的产物;所述含氟光固化单体结构式为:其中:n≥1,m≥3;R1为氢或者甲基;R2为烷烃类、芳烃类、醚类或酯类基团。
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