[发明专利]米级光栅玻璃光刻胶精密涂覆方法在审
| 申请号： | 201410472662.9 | 申请日： | 2014-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN104267579A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 熊怀;唐永兴;沈斌;陈知亚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯;张宁展 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种米级光栅玻璃高均匀性光刻胶精密涂覆方法，包括步骤：准备好光刻胶→将光刻胶投入压力罐→利用压缩空气将压力罐内的光刻胶从喷枪喷嘴中喷出→往复喷涂在米级光栅玻璃上形成湿膜→旋转米级光栅玻璃进行甩胶→进烘箱烘干。本发明能在米级光栅玻璃上进行光刻胶高均匀性精密涂覆。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 玻璃 光刻 精密 方法 | ||
【主权项】：
一种米级光栅玻璃光刻胶精密涂覆方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：①准备光刻胶，并将其投入压力罐；②利用压缩空气将压力罐内的光刻胶从喷枪喷嘴中喷出，往复喷涂在米级光栅玻璃上形成湿膜；③旋转米级光栅玻璃进行甩胶；④送进烘箱烘干。
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