[发明专利]一种基于Keyence实时聚焦方法及装置有效

专利信息
申请号: 201410470356.1 申请日: 2014-09-15
公开(公告)号: CN104216241B 公开(公告)日: 2017-01-18
发明(设计)人: 王宇航;曹旸 申请(专利权)人: 江苏影速光电技术有限公司
主分类号: G03F7/207 分类号: G03F7/207
代理公司: 徐州支点知识产权代理事务所(普通合伙)32244 代理人: 刘新合
地址: 221399 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于Keyence实时聚焦方法及装置,扫描式光刻机按照条带进行曝光,所有条带构成整个曝光区域;曝光区域确定实时聚焦区域,将实时聚焦区域划分成待拟合区域;曝光某一条带前利用Keyence将与此条带相交的所有待拟合区域的四个顶点位置的焦面值测算出来,通过矩阵运算拟合得到待拟合区域的焦平面方程;曝光某一条带时找到已拟合区域,通过焦平面方程得到焦面值,移动曝光基底Wafer实现精准聚焦。本基于Keyence实时聚焦方法及装置成本低廉,聚焦精准、快速,实现了超快速聚焦;实际应用中可以通过调整待拟合区域大小来实现更精细或更快速的聚焦。
搜索关键词: 一种 基于 keyence 实时 聚焦 方法 装置
【主权项】:
一种基于Keyence实时聚焦方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)、扫描式光刻机按照条带进行曝光,一次扫描曝光一个条带,一个条带接着一个条带的顺序曝光,所有条带构成整个曝光区域;(2)、根据步骤(1)中曝光区域确定实时聚焦区域,将实时聚焦区域按照一定的宽度和高度划分成若干小的矩形区域作为待拟合区域;(3)、曝光某一条带前通过激光测距仪Keyence将与此条带相交的所有待拟合区域的四个顶点位置的焦面值测算出来,将每个待拟合区域四个顶点的位置及焦面值进行矩阵运算,拟合得到此区域的焦平面方程;(4)、曝光某一条带时通过三轴定位平台Stage当前的位置x0,y0,找到包含此位置的已拟合区域,并将x0,y0代入此区域的焦平面方程,从而得到三轴定位平台Stage在此位置的焦面值f0,移动三轴定位平台Stage的Z轴到f0位置实现此位置的聚焦。
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