[发明专利]一种电子产品生产线粉尘监测点优化方法有效

专利信息
申请号: 201410462537.X 申请日: 2014-09-12
公开(公告)号: CN104270414B 公开(公告)日: 2018-01-02
发明(设计)人: 胡国良 申请(专利权)人: 徐岩军
主分类号: H04L29/08 分类号: H04L29/08;H04L12/751;G05B19/418
代理公司: 台州蓝天知识产权代理有限公司33229 代理人: 周志涛
地址: 318000 浙江省台*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种电子产品生产线粉尘监测点优化方法,该方法先构建监测点的拓扑图,在监测周期内,通过比较监测点的数据平均值与预设基准值的大小来更新拓扑图,以达到在监测周期内,获得优化后的监测点及监测点之间的位置关系。这种方法使得在不浪费资源的基础上,监测点的设置更优。
搜索关键词: 一种 电子产品 生产线 粉尘 监测 优化 方法
【主权项】:
一种电子产品生产线粉尘监测点优化方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤A、预设若干监测点和一个监控中心,所述每个监测点设有无线传感模块,监控中心设有无线接收模块和数据存储模块,每个监测点的无线传感模块实时发送监测数据至监控中心,数据存储模块用于存储接收的监测数据以及预设基准值;步骤B、构建监测点拓扑图:将每个监测点作为拓扑图的顶点,将相邻两个顶点之间距离大于距离门限值R的两个顶点的连线作为拓扑图的边;步骤C、设置监测周期,在一个监测周期内,判断所有监测点数据的平均值是否均大于等于预设基准值,若是,则该拓扑图中的监测点均为敏感点,所述敏感点为监测数据的平均值大于等于预设基准值的监测点,拓扑图无需更新;否则,执行步骤D;步骤D、判断是否仅存在一个监测数据平均值小于预设基准值的监测点,若是,则删除该监测点,更新拓扑图后执行步骤E;否则删除监测数据平均值最小的监测点,更新拓扑图后执行步骤E;步骤E、增加一个监测点,继续更新拓扑图后重复执行步骤C‑步骤E,直至拓扑图中的所有监测点均为敏感点,则当前拓扑图中的监测点为监测周期内优化后的监测点,其中,在更新拓扑图时要求满足两个相邻顶点之间的距离大于距离门限值。
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