[发明专利]垂直磁记录介质及磁记录再现装置在审

专利信息
申请号: 201410438089.X 申请日: 2014-08-29
公开(公告)号: CN104575529A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: 及川壮一 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/66 分类号: G11B5/66;G11B5/851
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 段承恩;刘航
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的实施例提供可同时实现热稳定性和记录容易性、可获得高面记录密度的垂直磁记录介质。实施例的垂直磁记录介质具备:在基板上顺序设置的、晶粒间的晶界宽度小于0.5nm的基底层;及与基底层接触地形成于该基底层上的、由磁性层和非磁性层交替层叠二层以上而成的多层磁记录层。磁性层和非磁性层都是连续层。磁性层具有以Co为主成分的磁性晶粒和包括分散于磁性层全体的氧化物的多个钉扎位点。垂直磁记录介质具有顽磁力附近的磁化曲线的斜率α为5以上的磁特性。
搜索关键词: 垂直 记录 介质 再现 装置
【主权项】:
一种垂直磁记录介质,其特征在于,具备:基板;基底层,其设置在该基板上,包括晶粒,该晶粒间的晶界宽度小于0.5nm;及多层磁记录层,其与该基底层接触地形成在该基底层上,由磁性层和非磁性层分别交替层叠二层以上而成;上述磁性层具有,以Co为主成分的磁性晶粒,和包括分散于该磁性层全体的氧化物、能够钉住磁畴壁的多个钉扎位点,是在磁记录层全体的范围、在面内方向交换耦合的磁连续的膜;具有顽磁力附近的磁化曲线的斜率α为5以上的磁特性。
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