[发明专利]使用双电浆源产生电浆之装置及包括该装置的用于处理基板之装置

摘要

本发明系关于一种使用双电浆源产生电浆之装置及一种包括该装置的基板处理装置。根据本发明之实施例的电浆产生装置包括：RF电源，其经组配来供应RF信号；电浆腔室，其经组配来提供空间，电浆在该空间中产生；第一电浆源，其安装于该电浆腔室之一部分处来产生电浆；以及第二电浆源，其安装于该电浆腔室之另一部分处来产生电浆，该第二电浆源包括：复数个绝缘回路，其沿该电浆腔室之圆周形成，其中气体通道提供于每一绝缘回路中，制程气体经由该气体通道注入且移动至该电浆腔室；以及复数个电磁场施加器，其耦合至该等绝缘回路且接收该RF信号，以将经由该气体通道移动之制程气体激发至电浆状态。

主权项

1.一种电浆产生装置，其包含：一RF电源，其经组配来供应一RF信号；一电浆腔室，其经组配来提供一空间，电浆在该空间中产生；一第一电浆源，其安装于该电浆腔室之一部分处来产生电浆；以及一第二电浆源，其安装于该电浆腔室之另一部分处来产生电浆，该第二电浆源包含：复数个绝缘回路，其沿该电浆腔室之一圆周形成，其中一制程气体藉以注入且移动至该电浆腔室之一气体通道提供于每一绝缘回路中；以及复数个电磁场施加器，其耦合至绝缘回路且接收该RF信号，以将移动穿过该气体通道之该制程气体激发至一电浆状态，其中该复数个电磁场施加器包含彼此并联连接之一第一施加器组及一第二施加器组，其中电浆产生装置还包括具有可变电容器的电抗组件，使得电浆产生装置能够通过调整所述可变电容器的电容来调整每一电磁场施加器中的电压降的量。