[发明专利]多环形自适应抛光磨头有效
申请号: | 201410390349.0 | 申请日: | 2014-08-08 |
公开(公告)号: | CN104175192A | 公开(公告)日: | 2014-12-03 |
发明(设计)人: | 张健;马占龙;代雷;彭利荣;隋永新;杨怀江 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | B24B13/01 | 分类号: | B24B13/01 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 王丹阳 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明公开了一种多环形自适应抛光磨头,属于光学冷加工技术领域。解决了现有非球面抛光技术中磨头表面与工件表面不匹配、无法抑制中频误差的问题。本发明的多环形自适应抛光磨头包括法兰轴、多环刚性基底、柔性环和抛光环,其中,法兰轴的底端固定在多环刚性基底的顶端,多环刚性基底的底端设有具有相同圆心的多个圆环形凸台,柔性环可以柔性变形,柔性环由多个同心圆环组成,柔性环的顶端固定在多个圆环形凸台上,抛光环由多个同心圆环组成,抛光环的顶端固定在柔性环的底端上。本发明的磨头能够通过柔性环的柔性变形,自动补偿由机床、装调或工件本身带来的误差,实现非球面的高质量抛光。 | ||
搜索关键词: | 环形 自适应 抛光 | ||
【主权项】:
多环形自适应抛光磨头,包括法兰轴(1),其特征在于,还包括,多环刚性基底(3)、柔性环(4)和抛光环(5);所述法兰轴(1)的底端固定在多环刚性基底(3)的顶端;所述多环刚性基底(3)的底端设有具有相同的圆心且按照半径从小到大,从内到外依次排列的多个圆环形凸台;所述柔性环(4)可以柔性变形,柔性环(4)由具有相同的圆心且按照半径从小到大,从内到外依次排列的多个圆环组成,柔性环(4)的顶端固定在圆环形凸台的底端;所述抛光环(5)由具有相同的圆心且按照半径从小到大,从内到外依次排列的多个圆环组成,抛光环(5)的顶端固定在柔性环(4)的底端上,所述抛光环(5)的多个圆环的底面具有相同的曲率半径。
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