[发明专利]一种氟化诱导高氮掺杂光还原氧化石墨烯薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 201410381140.8 申请日: 2014-08-05
公开(公告)号: CN104129784A 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 李新宇;唐涛;李明;文剑锋 申请(专利权)人: 桂林理工大学
主分类号: C01B31/04 分类号: C01B31/04
代理公司: 代理人:
地址: 541004 广*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明公开了一种氟化诱导高氮掺杂光还原氧化石墨烯薄膜的方法。以化学氧化制备的氧化石墨烯为原料,包括将氧化石墨烯片在基底上旋涂成薄膜,将氧化石墨烯薄膜与二氟化氙混合氟化,光照实现高氮掺杂石墨烯的方法。所述方法将氟化石墨烯薄膜在NH3气(流量为10torr~30torr)氛围下,通过使用65到75mJ/cm2能量的激光或汞灯可选择的区域位置进行光照,光照时间在5~60分钟范围内,通过光照还原时产生脱氟效应,从而引入空位缺陷,空位缺陷的增多促进N原子的掺杂,从而提高N掺杂含量。本发明操作方便、成本低、能大批量制备,本发明通过光照时间、强度和掺氟浓度,以达到调控氮掺杂含量以及石墨烯的导电率和带隙的效果。
搜索关键词: 一种 氟化 诱导 掺杂 光还原 氧化 石墨 薄膜 方法
【主权项】:
一种氟化诱导高氮掺杂光还原氧化石墨烯薄膜的方法,其特征在于具体步骤为:(1)将6‑10g鳞片石墨、6‑10g硝酸钠和350‑400mL市售的浓硫酸冰浴混匀;然后缓慢加入45‑55g高锰酸钾,磁力搅拌混匀后在35摄氏温度中加热2小时;接着加入320mL去离子水搅拌15分钟,再加入800 mL去离子水和40 mL H2O2搅拌10分钟,得到绿色悬浮液;(2)将步骤(1)得到的绿色悬浮液加入0.0001mol/L的稀硝酸溶液进行清洗,然后14000rpm的离心速度离心获得沉淀;(3)重复步骤(2)2‑3次; (4) 将步骤(3)得到的悬浮液再加入去离子水,14000rpm高速离心得到沉淀;(5)重复步骤(4)加入去离子水再离心的过程10遍,确保不含有其他杂质,得到氧化石墨烯溶液;(6)将步骤(5)得到的氧化石墨烯溶液利用冷凝干燥机干燥烘干,得到氧化石墨烯粉末;(7)将步骤(6)得到的氧化石墨烯粉末与质量百分比浓度为80‑90%的乙醇,配置溶液浓度为1mg/mL,超声辅助,超声时间25‑35分钟,得到分散较好的氧化石墨烯‑乙醇溶液;通过旋涂的方法在SiO2/Si 基片上将氧化石墨烯‑乙醇溶液有序组装成大面积薄膜即氧化石墨烯薄膜,SiO2/Si 基片厚度为0.5mm,SiO2层厚度为200‑300纳米,氧化石墨烯薄膜的含氧量较高,其中氧碳原子比为2:5;氧化石墨烯薄膜的厚度为100‑200纳米;(8)将步骤(7)所得氧化石墨烯薄膜与50‑100mg二氟化氙混合氟化,放入内衬特氟隆即聚四氟乙烯不锈钢反应釜中,在真空加热炉中温度180 oC、反应24 ‑36小时,得到氟化石墨烯薄膜;(9)将步骤(8)所制得的氟化石墨烯薄膜放入一个石英舟里面,再将石英舟放入自制备的光照还原装置中,该装置由一能封闭、能通气体的透明容器,上方放上光源,光源的频谱范围在200nm至760nm之间,光源为单色光或白光;氟化石墨烯薄膜在流量为10torr~30torr 的NH3气氛围下,通过使用65~75 mJ/cm2能量的激光或汞灯对选择的区域位置进行光照,通过光照还原时产生脱氟效应,光源对氟化石墨烯薄膜实现全覆盖,经过5~60分钟的光照时间,即制得高氮掺杂石墨烯薄膜。
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