[发明专利]用于加工超光滑不锈钢表面的抛光液及其应用在审

专利信息
申请号: 201410351139.0 申请日: 2014-07-22
公开(公告)号: CN104152906A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 江亮;雒建斌;何永勇 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: C23F3/04 分类号: C23F3/04
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 李志东
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种用于加工超光滑不锈钢表面的抛光液及其应用,该抛光液包括:0.01~40wt%的研磨颗粒;0~10wt%的氧化剂;0~5wt%的金属缓蚀剂;以及余量的水,其中,研磨颗粒为选自单晶金刚石、聚晶金刚石、三氧化二铝、二氧化锆、二氧化铈、煅制氧化硅和胶体二氧化硅中的至少一种,氧化剂为选自高碘酸盐、碘酸盐、高氯酸盐、过硫酸盐、过氧化氢中的至少一种,金属缓蚀剂为选自含氮杂环衍生物、含硫杂环衍生物和同时含有氮、硫的杂环衍生物中的至少一种。该抛光液能够有效实现高不锈钢材料去除速率,并且在不锈钢表面形成一层致密的钝化膜,防止在抛光过程中出现过腐蚀,从而获得超光滑不锈钢表面。
搜索关键词: 用于 加工 光滑 不锈钢 表面 抛光 及其 应用
【主权项】:
一种用于加工超光滑不锈钢表面的抛光液,其特征在于,包括:0.01~40wt%的研磨颗粒;0~10wt%的氧化剂;0~5wt%的金属缓蚀剂;以及余量的水,其中,所述研磨颗粒为选自单晶金刚石、聚晶金刚石、三氧化二铝、二氧化锆、二氧化铈、煅制氧化硅和胶体二氧化硅中的至少一种,所述氧化剂为选自高碘酸盐、碘酸盐、高氯酸盐、过硫酸盐、过氧化氢中的至少一种,所述金属缓蚀剂为选自含氮杂环衍生物、含硫杂环衍生物和同时含有氮、硫的杂环衍生物中的至少一种。
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