[发明专利]一种宽谱线投影光学系统和光刻设备

摘要

本发明公开一种宽谱线投影光学系统和光刻设备。宽谱线投影光学系统为在物方和像方皆接近远心光路的缩小的投影光学系统，其从物平面到像平面依次包括具有正光焦度的第一镜组、可变孔径光阑、第二镜组和具有正光焦度的第三镜组。第二镜组满足关系式：vd＝(nd－1)/(nF－nC)，nd＜1.65且vd＞65的正透镜最少有2个，nd＞1.50且vd＜55的负透镜最少有2个。第三镜组中，最接近像平面的透镜为负透镜，负透镜具有一个面向像平面的凹面，且满足以下关系式：nd＜1.66且vd＞58，0.6＜ri/ti＜5.0。各镜组满足关系式：0.05<f1/L<1.3，|f2|/L>0.3，0.03<f3/L<0.8。

主权项

一种宽谱线投影光学系统，其用于将物平面内的图形成像到像平面内，所述宽谱线投影光学系统从放大一侧到缩小一侧沿其光轴方向，从物平面到像平面依次包括第一镜组(G1)、光阑(AS)、第二镜组(G2)和第三镜组(G3)；其特征在于：所述宽谱线投影光学系统为在物方和像方皆为接近远心光路的缩小的投影光学系统，第一镜组(G1)和第三镜(G3)组均具有正光焦度，光阑(AS)在第一镜组(G1)与第三镜组(G3)中间，第二镜组(G2)满足关系式：vd＝(nd－1)/(nF－nC)，nd＜1.65且vd＞65的正透镜最少有2个，nd＞1.50且vd＜55的负透镜最少有2个，其中，vd为色散系数、体现光学材料的色散程度的常数，nF为波長486nm的F线折射率，nd为波長587nm的d线折射率，nC为波長656nm的C线折射率；第三镜组(G3)中，最接近所述像平面的透镜为负透镜，所述负透镜具有一个面向所述像平面的凹面，且满足以下关系式：nd＜1.66，vd＞58，0.6＜ri/ti＜5.0，其中，ri为所述负透镜的凹面的曲率半径，ti为所述负透镜的凹面到所述像平面之间的距离；第一镜组(G1)、第二镜组(G2)、第三镜组(G3)各镜组之间满足关系式：0.05<f1/L<1.3，|f2|/L>0.3，0.03<f3/L<0.8，其中，f1为第一镜组(G1)的组合焦距，f2为第二镜组(G2)的组合焦距，f3为第三镜组(G3)的组合焦距，L为物平面到像平面之间的距离。