[发明专利]一种光电探测器及其制备方法有效
申请号: | 201410334652.9 | 申请日: | 2014-07-14 |
公开(公告)号: | CN105322034B | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 温鹏雁;李德尧;张书明;刘建平;张立群;杨辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/103;H01L31/18 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)44316 | 代理人: | 宋鹰武,沈祖锋 |
地址: | 215123 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种光电探测器,在光电转换层上外延生长光衰减层,所述光衰减层与所述光电转换层的材料相同或所述光衰减层的材料带隙比所述光电转换层的材料带隙窄,使得入射至光探测器的强光在到达pn结空间电荷区之前,大部分被所述光衰减层吸收,当光衰减层的厚度固定后,照射到pn结空间电荷区的光强与入射光光强的比例也确定,且该比例在探测器制作完成后会保持稳定不变。因此,虽然照射到pn结空间电荷区的光已被光衰减层所衰减,但通过光电流的测量仍然可以确定入射光的光功率,从而能够提供准确的光功率信息。 | ||
搜索关键词: | 一种 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种光电探测器,其特征在于,包括依次设置的第一层、第二层、第三层、第四层和第五层,其中,第一层为第一欧姆接触电极层;第二层为衬底;第三层为光电转换层;第四层为光衰减层;第五层为第二欧姆接触电极层;所述衬底为n型单晶GaAs( 120) ,所述光电转换层为GaAs,厚度为0.8μm,所述光衰减层为p型In0.05Ga0.95As12,厚度为5.0μm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的