[发明专利]X射线与激光同轴系统

摘要

本发明涉及一种X射线与激光同轴系统。所述系统包括电离室调节装置，具有第一导轨与X射线平行，X射线的光束中心与面阵平板探测器的中心重合；激光器调整装置位于电离室调节装置的另一侧的对应位置，夹持有激光器发射激光；当激光照射在面阵平板探测器，调整激光器的激光出射位置，使得激光的十字中心与面阵平板探测器中心重合；改变面阵平板探测器与激光器调整装置的相对距离，再次调整激光器的激光出射位置，使得激光的十字中心与面阵平板探测器中心再次重合；继续调整激光器的激光出射位置，直到激光的十字中心与面阵平板探测器中心一直重合，使得激光与X射线同轴。本发明X射线与激光同轴系统实现方便的对X射线与激光同轴处理。

主权项

一种X射线与激光同轴系统，其特征在于，所述系统包括：电离室调节装置，具有第一导轨，用于搭设电离室或面阵平板探测器，所述电离室或面阵平板探测器接收从所述电离室调节装置一侧发射来的X射线，所述第一导轨与所述X射线平行，并且所述X射线的光束中心与所述面阵平板探测器的中心重合；激光器调整装置，位于所述电离室调节装置的另一侧的对应位置，夹持有激光器，用于发射激光；其中，当所述激光照射在所述面阵平板探测器，调整所述激光器的激光出射位置，使得激光的十字中心与面阵平板探测器中心重合；改变所述面阵平板探测器与所述激光器调整装置的相对距离，再次调整所述激光器的激光出射位置，使得激光的十字中心与面阵平板探测器中心再次重合；继续调整所述激光器的激光出射位置，直到激光的十字中心与面阵平板探测器中心一直重合，使得所述激光与所述X射线同轴；所述电离室调节装置包括：基座，所述基座上具有第一导轨；电离室位置调整装置，包括：一级移动载物平台，滑设在第一导轨上，在所述第一导轨上平动，且具有第二导轨，所述第一导轨沿所述X射线主束方向，所述第二导轨与所述第一导轨的方向垂直；二级移动载物平台，滑设在所述第二导轨上，在所述第二导轨上平动；三级移动载物平台，与所述二级移动载物平台相接设，包括竖直升降调整平台，所述竖直升降调整平台上具有夹具夹持电离室，用于调节所述电离室的高度；其中，调节一级移动载物平台在所述第一导轨上平动，二级移动载物平台在所述第二导轨上平动，竖直升降调整平台调节所述电离室高度，使得激光中心对准所述电离室的灵敏体积中心，所述激光中心与所述X射线主束中心位置相同。