[发明专利]透镜阵列及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410323296.0 申请日: 2014-07-08
公开(公告)号: CN104570169B 公开(公告)日: 2017-06-30
发明(设计)人: 安田晋;清水敬司 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02B3/12;B29D11/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 陈源,李铭
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了透镜阵列及其制造方法。所提供的透镜阵列中,在经过亲液表面处理的防液基板的表面上使用刀片形成隔离壁,使用刀片形成防液凹槽部分,每个防液凹槽部分是V形的,亲液部分位于彼此相邻的隔离壁之间,使用液态聚合物在所述亲液部分上形成透镜。
搜索关键词: 透镜 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种透镜阵列,其中在经过亲液表面处理的防液基板的表面上使用刀片形成隔离壁,使用所述刀片形成防液凹槽部分,每个所述防液凹槽部分是V形的,亲液部分位于彼此相邻的隔离壁之间,以及使用液态聚合物在所述亲液部分上形成透镜,其中,隔离壁之间的部分是形成在通过两次插入刀片或插入两片刀片得到的隔离壁之间的部分。
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