[发明专利]一种三维有序大孔InVO4-BiVO4异质结的可见光响应光催化剂、制备及应用在审

专利信息
申请号: 201410300238.6 申请日: 2014-06-26
公开(公告)号: CN104084188A 公开(公告)日: 2014-10-08
发明(设计)人: 戴洪兴;吉科猛;邓积光 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: B01J23/22 分类号: B01J23/22;B01J35/10;C02F1/30
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张慧
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种三维有序大孔InVO4-BiVO4异质结的可见光响应型光催化剂、制备及应用,属于光响应催化剂技术领域。按摩尔比4:1:5将硝酸铟、硝酸铋和抗坏血酸溶于乙二醇、甲醇、浓盐酸和去离子水构成的混合溶剂中,然后转移至70℃的水浴锅中继续搅拌,加入与总硝酸盐等摩尔量的偏钒酸铵,将PMMA模板于前驱液中浸渍。经抽滤干燥后,通过两步焙烧法得到目标催化剂:(1)在氮气气氛中,以1℃/min从室温升至300℃并保持3h;(2)待温度降至50℃以下,切换为空气气氛,以1℃/min的速率升至450℃并保持4h。本发明光催化剂在可见光照射下对罗丹明B和亚甲基蓝的降解表现出高效的光催化活性。
搜索关键词: 一种 三维 有序 invo sub bivo 异质结 可见光 响应 光催化剂 制备 应用
【主权项】:
一种三维有序大孔InVO4‑BiVO4异质结的可见光响应型光催化剂,其特征在于,该催化剂为具有三维有序大孔结构且孔壁上具有介孔结构的由单斜InVO4和BiVO4构成复合结构的光催化剂,平均孔径为100~200nm,孔壁壁厚为20~40nm,孔壁介孔孔径为2~10nm,带隙能为2.5~2.6eV。
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