[发明专利]内涵体逃逸聚合物超灵敏比例型pH传感器的制备及其应用无效
申请号: | 201410293684.9 | 申请日: | 2014-06-25 |
公开(公告)号: | CN104072695A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 刘世勇;胡进明;汪枭睿 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | C08F293/00 | 分类号: | C08F293/00;C08F8/10;C08F8/44;G01N21/64 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王旭 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及基于内涵体逃逸聚合物的超灵敏比例型pH传感器的制备方法及其应用。超灵敏比例型pH传感器由pH敏感的香豆素基元和荧光不受pH影响的四甲基罗丹明基元共价结合到内涵体逃逸聚合物构成。该比例型pH传感器由连续的可逆加成-断裂链转移聚合(RAFT)和高分子改性的方法制备。所述pH传感器具有良好的生物相容性并可用于细胞内吞、内涵体逃逸等过程的实时高灵敏度比例型荧光示踪。并且所述内涵体逃逸聚合物可以携带抗癌药物更有效的进入细胞质中,提高化疗药物的利用效率。 | ||
搜索关键词: | 内涵 逃逸 聚合物 灵敏 比例 ph 传感器 制备 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种荧光标记的两嵌段聚合物,所述两嵌段聚合物包括全亲性嵌段聚合物和两亲性嵌段聚合物,其中包含两种荧光基元:pH敏感的荧光基元和荧光不受pH影响的荧光基元。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学技术大学,未经中国科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410293684.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。