[发明专利]具有穿通电极的半导体封装及其制造方法有效
申请号: | 201410290157.2 | 申请日: | 2014-06-25 |
公开(公告)号: | CN104253056B | 公开(公告)日: | 2018-01-30 |
发明(设计)人: | 郑显秀;金钟延;李仁荣;赵泰济 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/498;H01L25/065 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 翟然 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供具有穿通电极的半导体封装及其制造方法。该方法可以包括形成包括堆叠在第二半导体芯片上的第一半导体芯片的晶片级封装;形成包括堆叠在第三半导体芯片上的第四半导体芯片的芯片级封装;在晶片级封装的第二半导体基板的后表面上堆叠多个芯片级封装,抛光晶片级封装的第一模层和第一半导体芯片以暴露第一半导体芯片的第一穿通电极,和在被抛光的第一半导体芯片上形成外部电极以分别连接到第一穿通电极。 | ||
搜索关键词: | 具有 通电 半导体 封装 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种形成半导体封装的方法,该方法包括:提供第一芯片和第二芯片,所述提供第一芯片和第二芯片包括:在所述第一芯片的第一基板的前表面上提供第一有源层;以及在所述第二芯片的第二基板的前表面上提供第二有源层;堆叠所述第一芯片和所述第二芯片使得所述第一芯片的第一有源层面对所述第二芯片的第二有源层;在所述第一芯片上和所述第二芯片的第二基板的前表面上形成模层以向所述半导体封装提供刚性,所述模层包括聚合物材料;在形成所述模层之后,以所述模层为载体,减薄所述第二基板的后表面;和在所述第二基板的减薄的后表面上形成后侧电极,所述后侧电极电连接到所述第二基板的第二穿通电极,在所述减薄所述半导体封装的所述第二基板的所述后表面之后,减薄所述半导体封装中的所述第一基板的所述第一芯片的后表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410290157.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种宝塔形排线的收线设备
- 下一篇:密封型直流接触器
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造