[发明专利]一种高温高能离子注入机离子光学系统在审

专利信息
申请号: 201410243508.4 申请日: 2014-06-04
公开(公告)号: CN104051211A 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 孙雪平;张赛;易文杰;彭立波 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/05
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 马强
地址: 410111 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种高温高能离子注入机离子光学系统,包括离子源,所述离子源产生的离子通过引出系统后形成离子束,所述离子束依次通过质量分析器和分析光栏,所述分析光栏分析提纯后的离子束经过一对垂直扫描电极板,所述垂直扫描电极板将经分析提纯后的离子束扫描成扇形状束带,所述扇形状束带通过30°平行束透镜后形成平行的带状束,所述平行的带状束通过加速管加速后,经高温靶盘注入晶片。本发明能保证注入离子种类和能量精度,满足注入工艺需要晶片加热的要求。
搜索关键词: 一种 高温 高能 离子 注入 光学系统
【主权项】:
一种高温高能离子注入机离子光学系统,包括离子源(1),其特征在于,所述离子源(1)发出的离子的传递光路上依次设置有引出系统(2)、质量分析器(5)、分析光栏(4)、一对垂直扫描电极板(5)、30°平行束透镜(6)、加速管(7)和高温靶盘(8);所述离子源(1)产生的离子通过引出系统(2)后形成离子束,所述离子束依次通过质量分析器(3)和分析光栏(4),所述分析光栏(4)分析提纯后的离子束经过一对垂直扫描电极板(5),所述垂直扫描电极板(5)将经分析提纯后的离子束扫描成扇形状束带,所述扇形状束带通过30°平行束透镜(6)后形成平行的带状束,所述平行的带状束通过加速管(7)加速后,经高温靶盘(8)注入晶片。
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