[发明专利]一种去除高温合金中微量杂质元素的方法有效

专利信息
申请号: 201410235863.7 申请日: 2014-05-29
公开(公告)号: CN103981372A 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 谭毅;姜大川;王登科;石爽 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C22B9/22 分类号: C22B9/22
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 赵淑梅;李馨
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种去除高温合金中微量杂质元素的方法,属于电子束熔炼领域。一种去除高温合金中微量杂质元素的方法,为电子束熔炼法,包括预除杂步骤:首先保持合金母材不被电子束熔化的同时将电子束束斑扩大到使其边缘与水冷铜坩埚边缘相切,此时以4~17mA/s的速率逐渐增加束流,同时缩小电子束束斑;当电子束束斑缩小至其边缘距坩埚中心一定距离时,反向扩大电子束束斑至束斑边缘与水冷铜坩埚边缘相切,继续逐渐增加束流;重复上述过程直至电子束束流至250~1000mA。电子束熔炼可以实现连续熔炼,可连续地对合金母材进行去除微量元素的处理,从而提高生产效率。
搜索关键词: 一种 去除 高温 合金 微量 杂质 元素 方法
【主权项】:
一种去除高温合金中微量杂质元素的方法,为电子束熔炼法,其特征在于:包括预除杂和深度除杂的步骤,其中,所述预除杂的步骤为:同时开启电子枪的高压和束流,高压25~35kV,束流50~500mA,保持合金母材不被电子束熔化的同时将电子束束斑扩大到使其边缘与水冷铜坩埚边缘相切,此时以4~17mA/s的速率逐渐增加束流,同时以的速率缩小电子束束斑,其中,R为水冷铜坩埚内壁半径;当电子束束斑缩小至其边缘距坩埚中心时,反向以的速率扩大电子束束斑至束斑边缘与水冷铜坩埚边缘相切,继续以4~17mA/s的速率逐渐增加束流;重复上述过程直至电子束束流至250~1000mA。
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