[发明专利]辅助图形的设计方法、测试版图的制作方法、光刻方法

摘要

本发明提供了用于线状图形的辅助图形的设计方法、测试版图的制作方法以及光刻方法，根据测试版图的线宽和间距，利用一组公式来计算出辅助图形的位置和尺寸参数，然后将辅助图形插入到目标图形中，经曝光后对比选择最为合适的辅助图形的位置和尺寸参数，从而能够制作出合理的测试版图。本发明基于Rule‑based插入方法对辅助图形的位置和尺寸参数进行优化，避免了现有的model‑based的方法的复杂的运算过程、过长的计算时间和昂贵的模拟成分，加快了后续测试版图的建模速度，提高了工作效率，采用本发明的辅助图形的设计方法得到的测试版图进行光刻工艺，能够提高光刻工艺精度和质量。

主权项

一种用于线状图形的辅助图形的设计方法，其特征在于，包括：步骤01：设定测试版图的线宽和间距；步骤02：利用以下式子计算出若干组辅助图形的位置和尺寸参数，并进行调整，选取各个参数的整数值：Amin≈Line/4；Amax≈Line/2  (1)Bmin≈2*A；                (2)Cmax≈(Pitch‑A)*0.9       (3)B≤C                     (4)其中，A表示辅助图形的尺寸线宽，Amin表示最小的A值，Amax表示最大的A值，B表示辅助图形之间的间距，Bmin表示每组中最小的B值，C表示辅助图形和目标图形的间距，Cmax表示每组辅助图形与目标图形的最大距离，Line和Pitch分别表示OPC测试版图的线宽和间距；所述步骤02中，包括：步骤201：根据Amin≈Line/4；Amax≈Line/2计算出的数值，选取所述A的最大极限值和最小极限值；步骤202：在所述A的最大极限值和最小极限值之间，以一定的递进步距选取若干个所述A的整数值，从而设计出一组所述A的数值；步骤203：根据Bmin≈2*A选取每个所述A所对应的所述B的最小极限值，再根据Cmax≈(Pitch‑A)*0.9，B≤C选取每个所述A所对应的所述B的最大极限值；步骤204：在所选取的所述B的最小极限值和最大极限值之间，以一定的递进步距选取若干个所述B的整数值，从而设计出每个所述A对应的一组所述B的数值；步骤205：再根据B≤C，Cmax≈(Pitch‑A)*0.9选取每个所述A所对应的C的最小极限值和最大极限值；步骤206：在所选取的C的最小极限值和最大极限值之间，以一定的递进步距选取若干个所述C的整数值，从而设计出每个所述A对应的一组所述C的数值；步骤03：根据调整后的所述位置和尺寸参数，将所述若干组辅助图形插入到所述目标图形的相应位置上；步骤04：将所述若干组辅助图形和所述目标图形进行曝光，对比选择出合适的位置和尺寸参数。