[发明专利]一种遮挡盘及反应腔室

摘要

本发明提供一种遮挡盘及反应腔室，该遮挡盘包括旋转分部和本体，旋转分部包括固定端和活动端，固定端与本体的外周壁相连接，且旋转分部沿本体的周向设置，旋转分部的活动端在其自身重力的作用下位于原始位置，原始位置定义为旋转分部的下表面与本体的下表面之间夹角为预设钝角时活动端所在的位置，在使用遮挡盘遮挡被遮挡物时，通过将旋转分部的活动端自原始位置顶起至预设最高位置，以使旋转分部与本体形成可遮挡被遮挡物的遮挡盘。本发明提供的遮挡盘，在存放时的尺寸较小，因而不需要在反应腔室内设置车库放置该遮挡盘，从而可以降低反应腔室的腔室成本，进而可以提高经济效益。

主权项

1.一种遮挡盘，其特征在于，所述遮挡盘包括旋转分部和本体，所述旋转分部包括固定端和活动端，所述固定端与所述本体的外周壁相连接，且所述旋转分部沿所述本体的周向设置，所述旋转分部的活动端在其自身重力的作用下位于原始位置，所述原始位置定义为所述旋转分部的下表面与所述本体的下表面之间夹角为预设钝角时所述活动端所在的位置，在使用所述遮挡盘遮挡被遮挡物时，通过将所述旋转分部的活动端自所述原始位置顶起至预设最高位置，以使所述旋转分部与所述本体形成可遮挡所述被遮挡物的遮挡盘。