[发明专利]一种采样光纤光栅的刻写方法在审
| 申请号： | 201410200773.4 | 申请日： | 2014-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN103984056A | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | 周勇;王安廷;顾春;许立新;明海 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明;顾炜 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种采样光纤光栅的刻写方法，该方法采用的具体装置结构包括：紫外光源(101)、全反射镜(102)、可控电动平移平台(103)、柱透镜(104)、光栅相位掩模板(105)、光纤夹持拉伸系统(106)。本发明可以刻写布拉格型采样光纤光栅，利用刻写的采样光纤光栅在多通道滤波、色散补偿方面具有很强的应用性。该发明结构简单，稳定性高，可调节性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采样 光纤 光栅 刻写 方法 | ||
【主权项】：
一种采样光纤光栅的刻写方法，其特征在于：该方法采用的装置结构由紫外光源(101)、全反射镜(102)、可控电动平移平台(103)、准直聚焦柱透镜(104)、光栅相位掩膜板(105)和光纤夹持拉伸系统(106)组成，该刻写方法的具体过程如下：紫外光源(101)产生的紫外光，经全反射镜(102)反射后照射到准直聚焦柱透镜(104)，经透镜聚焦到光栅相位掩膜板(105)上，透射光通过相位掩模板后能够产生±1级衍射，衍射光形成的干涉光对被刻写光纤(107)进行曝光，刻写过程中可控电动平移平台(103)带动全反射镜(102)匀速平移引起曝光位置在被刻写光纤(107)上的匀速平移，光纤夹持拉伸系统(106)可以保持被刻写光纤(107)伸直同时等时间间隔逐步拉伸被刻写光纤(107)，逐步改变光纤光栅周期达到对光纤光栅的反射波长进行采样的目的。针对准直聚焦柱透镜(104)聚焦后光斑较大情况，需在相邻周期光栅间预留不曝光区域以避免相邻光栅重叠。
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