[发明专利]一种测量膜层厚度的方法和装置有效
申请号: | 201410199576.5 | 申请日: | 2014-05-12 |
公开(公告)号: | CN103994741A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 李兴亮;梁魁;封宾;袁剑峰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G01B21/08 | 分类号: | G01B21/08 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李迪 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种测量膜层厚度的方法,包括:S1、根据探针所受反作用力的不同确定膜层的分界;S2、根据探针上的位移传感器测得的位置数据或者根据探针穿透膜层的时间和运动速度计算得到膜层厚度。本发明中提供的方法通过用刚性的探针穿透膜层时反作用力的变化确定膜层的分界,通过反作用力发生突变的时刻确定探针开始穿过和刚好穿过膜层的时刻,进而根据探针运动速度和穿透时间计算膜层的厚度,还可以根据探针的位置数据计算得到膜层厚度,测量过程不需移动样品,只移动探针即可,测量方法简单易操作,而且得到的膜层厚度数据误差小,更接近实际厚度,准确度高。同时,本发明还提供了实现上述测量膜层厚度的方法的装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 测量 厚度 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种测量膜层厚度的方法,其特征在于,包括:S1、根据探针所受反作用力的不同确定膜层的分界;S2、根据探针上的位移传感器测得的位置数据或者根据探针穿透膜层的时间和运动速度计算得到膜层厚度。
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