[发明专利]一种基于掩模板的投影物镜性能测试装置以及方法有效

专利信息
申请号: 201410199385.9 申请日: 2014-05-12
公开(公告)号: CN105890875B 公开(公告)日: 2018-12-14
发明(设计)人: 李天鹏;何经雷 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种基于掩模板的投影物镜性能测试装置,包括:一掩模台组件,用于将该掩模板的标记阵列经该投影物镜成像形成以标记像点;一掩模台对准组件,用以实现该掩模台组件的对准安装;一标记探测组件,该标记探测组件用于测量该掩模板的标记阵列及该标记像点以获得该投影物镜的波前信息。
搜索关键词: 一种 基于 模板 投影 物镜 性能 测试 装置 以及 方法
【主权项】:
1.一种基于掩模板的投影物镜性能测试装置,其特征在于,包括:一掩模台组件,包括掩模板和照明光源组件,所述掩模板上有标记阵列,所述标记阵列用作所述投影物镜的测试载体,所述照明光源组件用于发出照明光束并依次照亮所述标记阵列中的各个标记;一掩模台对准组件,用于安装所述掩模台组件,以使得在所述投影物镜安装前后所述掩模台组件的位置满足所述投影物镜的物像共轭关系;一标记探测组件,用于在投影物镜安装前探测所述照明光束依次照亮所述标记阵列的标记后的标记信息,以及在所述投影物镜安装后所述照明光束依次照亮所述标记阵列的标记并经过投影物镜后的标记像点信息,根据所述标记信息和标记像点信息获得所述投影物镜的性能;所述投影物镜性能包括投影物镜的像面共轭偏差量、畸变、放大倍率、场曲、波像差以及绝对远心。
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