[发明专利]一种提高外延片亮度的三角锥图形衬底的制备方法无效
| 申请号： | 201410168831.X | 申请日： | 2014-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN103943736A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 韩沈丹;付刚;缪炳有 | 申请（专利权）人： | 西安神光安瑞光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;B44C1/24 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 倪金荣 |
| 地址： | 710100 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种提高外延片亮度的三角锥图形衬底的制备方法，包括以下步骤：1)在清洗后的抛光衬底表面旋涂一层光刻胶；2)对涂有光刻胶的衬底进行曝光；显影后得到圆柱型光刻胶掩膜；并对生成的光刻胶掩膜进行烘烤；3)ICP刻蚀步骤2)显影后的样片；得到低角度三角锥图形衬底；4)步骤3)中的低角度三角锥图形衬底，经去除边缘剩余光刻胶并出货清洗后，生长外延层。本发明基于目前LED用三角锥图形化蓝宝石衬底的现状的新形貌的三角锥图形化衬底结构理念，用于提高外延片的亮度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 外延 亮度 三角 图形 衬底 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种提高外延片亮度的三角锥图形衬底的制备方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：1)在清洗后的抛光衬底表面旋涂一层光刻胶；2)对涂有光刻胶的衬底进行曝光；显影后得到圆柱型光刻胶掩膜；并对生成的光刻胶掩膜进行烘烤；3)ICP刻蚀步骤2)显影后的样片；得到低角度三角锥图形衬底；4)步骤3)中的低角度三角锥图形衬底，经去除边缘剩余光刻胶并出货清洗后，生长外延层。
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