[发明专利]润草1号在高荫条件下的栽培方法

摘要

本发明公开了禾本科植物新草种“润草1号”在高遮荫条件下的栽培方法，所述高荫条件为遮光率在75%～92%条件，具体栽培方法包括播撒草种、用水量、病虫、杂草防治、肥料用量、修剪次数、矮化健壮措施等几个方面。通过本发明方法可以使得禾本科新品种“润草1号”，可在75%～92%的遮光下能表现较好的生长，并能正常开花结果。本发明方法节约能源与生产成本，实现了有机农业；节省了大量土地资源，又能产生较高的经济效益；对防止水土流失起到了积极的效果。这样就符合了节能环保、城市景观绿地建设、提高经济效益和充分利用土地资源相结合的要求。

主权项

润草1号在高荫条件下的栽培方法，其特征在于，所述高荫条件为遮光率在75%～92%条件，具体栽培方法是：①播撒草种：播种期在9月中旬至10月上旬，播种量一般为4～6g/m²；②用水量：在遮阳的条件下，土壤水分蒸发率较小，正常时节是不需要补充水分，只是在较干旱的时期浇水2～3次；③病虫、杂草防治：润草1号在遮阳的条件下，很少发生病虫害，只有偶尔年份发生少量的锈病，用粉锈灵防治1～2次即可；④肥料用量：在遮阳的条件下，润草1号需养分量极少，一般不用补充氮、磷元素，可适当补充钾和钙元素；⑤修剪次数：在遮阳的条件下，润草1号仍能保持较好横向生长性，故生长比较低矮，一年中，一般修剪2～3次，就能保持草坪的平整性与低矮性；⑥矮化健壮措施：因为草坪草长期处于荫闭状态，植株比较柔嫩且垂直生长，易倒伏感病，当润草1号处于生长旺盛期时，每平方米用15%多效唑0.01g兑水40～60g进行细喷雾，每隔25～30d喷洒一次。