[发明专利]一种湿法刻蚀设备在审

专利信息
申请号: 201410156362.X 申请日: 2014-04-17
公开(公告)号: CN103928371A 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 李佳 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/66;H01L21/677
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李迪
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示设备技术领域,具体涉及了一种湿法刻蚀设备。该湿法刻蚀设备包括用于刻蚀基板的腔室,还包括第一驱动机构、第二驱动机构、控制机构和感测机构,第一驱动机构和第二驱动机构相互独立设置;控制机构与第一驱动机构和第二驱动机构分别连接,用于控制第一驱动机构和第二驱动机构分别带动基板在腔室内移动;感测机构与基板对应设置,用于将基板的位置信号反馈给控制机构。该湿法刻蚀设备采用双驱动机构的传动方式,当其中一套驱动机构发生故障时,可以实现不用占用生产时间去维修而立即运行另一套驱动机构,减少了基板因过刻而造成的报废,节约了制造成本,提高了产品的良率,有效解决了产能瓶颈。
搜索关键词: 一种 湿法 刻蚀 设备
【主权项】:
一种湿法刻蚀设备,包括用于刻蚀基板(6)的腔室(5),其特征在于,还包括:第一驱动机构(1)、第二驱动机构(2),所述第一驱动机构(1)和第二驱动机构(2)相互独立设置;控制机构(4),所述控制机构(4)与所述第一驱动机构(1)和第二驱动机构(2)分别连接,用于控制第一驱动机构(1)和第二驱动机构(2)分别带动所述基板(6)在腔室(5)内移动;感测机构(3),所述感测机构(3)与基板(6)对应设置,用于将基板(6)的位置信号反馈给所述控制机构(4)。
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