[发明专利]半导体器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201410147942.2 申请日: 2014-04-14
公开(公告)号: CN104425458A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 辛尚勋;边相镇 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;H01L21/66
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 俞波;毋二省
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体器件包括:主区,适用于在测试模式下分别基于第一测试信号和第二测试信号执行第一测试操作和第二测试操作;第一测试区,其与主区电连接,并且适用于在测试模式下产生且传送第一测试信号至主区;以及第二测试区,与主区或第一测试区电连接,并且适用于在测试模式下产生且传送第二测试信号至主区,其中划线设置在第二测试区与主区或第一测试区之间。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体器件,包括:主区,所述主区适用于在测试模式下分别基于第一测试信号和第二测试信号执行第一测试操作和第二测试操作;第一测试区,所述第一测试区与所述主区电连接,并且适用于在所述测试模式下产生并传送所述第一测试信号至所述主区;以及第二测试区,所述第二测试区与所述主区或所述第一测试区电连接,并且适用于在所述测试模式下产生并传送所述第二测试信号至所述主区,其中划线设置在所述第二测试区与所述主区或所述第一测试区之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士有限公司,未经爱思开海力士有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410147942.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top