[发明专利]基于SIFT的DWT‑SVD抗几何攻击盲水印方法有效
申请号: | 201410146026.7 | 申请日: | 2014-04-11 |
公开(公告)号: | CN103955878B | 公开(公告)日: | 2017-06-23 |
发明(设计)人: | 叶学义;陈雪婷;邓猛;汪云路;何志伟;赵知劲 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | G06T1/00 | 分类号: | G06T1/00 |
代理公司: | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)33240 | 代理人: | 杜军 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于SIFT的DWT‑SVD抗几何攻击盲水印方法。本发明方法包括水印嵌入方法和水印提取方法。水印嵌入方法是对原始图像进行离散小波变换,将其低频子带分块并对每小块进行奇异值分解,再将待嵌入水印进行混沌加密,在每小块的最大奇异值中通过一种最优量化方法嵌入水印,保存水印图像的SIFT特征点作为密钥,通过密钥判断受到几何攻击类型并进行校正。水印提取方法是水印嵌入方法的逆过程,包括对受攻击图像进行校正、水印提取,水印解密和恢复。本发明利用SIFT特征点的旋转、缩放、平移不变性,并结合DWT、SVD在数字水印方面的优势,显著地提高了对几何攻击的鲁棒性。 | ||
搜索关键词: | 基于 sift dwt svd 几何 攻击 水印 方法 | ||
【主权项】:
基于SIFT的DWT‑SVD抗几何攻击盲水印方法,包括水印嵌入方法和水印提取方法,其特征在于:所述的水印嵌入方法的具体步骤是:步骤1:获取正方形的原始载体图像I(M,M),M是图像的行和列,I的内切圆记作S,S的内接正方形用来嵌入水印,记做x,对x进行一级离散小波变换,得到低频子带LL、高频子带HH、混合子带HL和LH,其矩阵大小为将其低频子带LL划分为互不重叠的n×n个大小为m×m的子块,n是m的整数倍,各个子块记为Aij,i=1,2,…n;j=1,2,…n;步骤2:对待嵌入的水印W采用logistic映射混沌模型进行混沌加密得到加密后水印W0,记映射初值为X0,混沌系数μ∈(3.5699,4],然后将加密后的水印按行排成一列,将初值X0和μ当作密钥;步骤3:对Aij进行奇异值分解,得到最大奇异值Lij;取量化步长为Δ,令δij=mod(Lij,Δ),δij为对Lij以Δ为单位求模的余数,根据δij进行量化嵌入水印,Lij′表示量化后的最大奇异值,量化方法如下:公式中的w是加密后水印中的一个比特;步骤4:对奇异值分解后的分析系数放在对应位置上,形成新的矩阵作为嵌入水印的新低频子带,然后将该新低频子带和对应的高频子带HH、混合子带HL和LH进行逆小波变换,重构出水印图像I*;步骤5:利用SIFT算法对水印图像提取特征点,记录特征点的位置、尺度和描述符作为特征点模板T,并将模板T作为密钥T′;所述的水印提取方法的具体步骤是:步骤a:对接收到的图像提取SIFT特征点,并与密钥T′进行匹配,如果完全匹配则表示未被攻击,直接进入步骤b;如果不能完全匹配则表示受到攻击,根据密钥T′对其进行校正后进入步骤b;步骤b:选取载体图像的内切圆的内接正方形作为水印嵌入区域x′,对x′进行一级离散小波变换,将其低频子带划分为互不重叠的大小为m×m的子块,各个子块记为A′ij,i=1,2,…n;j=1,2,…n;步骤c:对A′ij进行奇异值分解,得到最大奇异值L′ij,δ′ij=mod(L′ij,Δ),若则w′=0;若则w′=1,w′即为在A′ij提取的比特;步骤d:对提取的比特按行排成二维矩阵W*,并进行混沌解密,即可恢复真实的水印W。
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