[发明专利]一种真空快速多相沉积系统制备YSZ涂层的方法

摘要

本发明公开了一种真空快速多相沉积系统制备YSZ涂层的方法，涉及一种新型结构热障涂层及其制备技术领域。所述制备方法中真空室压力低于1mbar，选择Ar35splm，He60slpm作为工作气体，通过调整电功率、电流、喷涂距离和送粉率等工艺参数，可以根据需要将YSZ颗粒加热到固液气三相或其任意组合相，即可以沉积出多种形貌的YSZ涂层，如柱状晶结构，纳米多层结构，纳米多层加柱状晶结构，纳米加微米多层结构等等。采用本发明提供制备方法得到的涂层组织致密，无液滴、颗粒以及针孔等缺陷，涂层与粘结层的结合力高；焰流能够在复杂的几何形状表面的流动，因此可以实现几何形状复杂的工件表面均匀涂层的制备。

主权项

一种真空快速多相沉积系统制备YSZ涂层的方法，其特征在于：第一步，准备高温基体；第二步，在高温基体上制备YSZ陶瓷层，具体步骤如下：（1）调整保护气体流量，选择Ar35splm，He60slpm；（2）将基体放入真空室内工件运动台上，抽真空室压力低于1mbar；（3）设定电功率75kw～100kw，设定电流为2000～2500A，引电弧，待电弧稳定后，调整工件距离为1400mm，将工件移入等离子焰流中，加热基体，用红外探头探测基体温度，直至基体温度达到1000℃；(4)打开送粉器，调整送粉率5～30g/min；(5)调整工件转速0～30rpm，调整工件距离800～1400mm；（6）制备结束，停止送粉，灭电弧，待真空室冷却，泄真空，取出样品，得到YSZ涂层。