[发明专利]水溶液的蒸发处理方法有效
| 申请号： | 201410137142.2 | 申请日： | 2014-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN104098150B | 公开（公告）日： | 2019-04-23 |
| 发明（设计）人： | 水谷淳二;藤本阳;田口龙也;秦野善行 | 申请（专利权）人： | 笹仓机械工程有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/04 | 分类号： | C02F1/04;C02F9/10 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以高效地进行含有钙、镁和二氧化硅的水溶液的蒸发处理的水溶液的蒸发处理方法。该水溶液的蒸发处理方法包括：晶种混合工序，其在含有钙、镁和二氧化硅的水溶液中，作为晶种与钙盐一起添加镁盐和硅酸盐中的至少一种，并进行混合；蒸发浓缩工序，将上述水溶液与上述晶种一起进行蒸发浓缩。 | ||
| 搜索关键词： | 水溶液 蒸发 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种水溶液的蒸发处理方法，其特征在于，包括：晶种混合工序，其在含有钙、镁和二氧化硅的水溶液中，作为晶种与钙盐一起添加镁盐和硅酸盐中的至少一种，并进行混合；和蒸发浓缩工序，其将所述水溶液与所述晶种一起进行蒸发浓缩，所述蒸发浓缩工序包括在具有热交换器的蒸发浓缩装置中供给所述水溶液和所述晶种并进行加热，由此将所述水溶液蒸发浓缩，在所述蒸发浓缩装置中所述水溶液的二氧化硅的水垢成分的浓度提高时，所述水垢成分以原有的所述晶种为核析出而抑制新核产生，由此防止水垢向所述热交换器的附着的工序。
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