[发明专利]一种折射率可调的光栅耦合器及其制作方法有效
| 申请号： | 201410127079.4 | 申请日： | 2014-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN103901563A | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 郭霞;武华;韩明夫 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | G02B6/44 | 分类号： | G02B6/44 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及光子器件技术领域，具体是一种折射率可调的光栅耦合器的制作方法，其特征在于：光栅槽为不同横向占空比的亚波长结构，光栅为在纵向即x方向不同的x位置具有不同的横向即y方向占空比fy的光栅；光栅在纵向的占空比fx取值是在（0，1）之间的一个定值；构成纵向上不同x位置光栅槽的亚波长结构，其横向占空比fy的取值由输出高斯型场分布G(x)所需要的泄漏因子分布α(x)决定。该结构的光栅耦合器可以有效降低光纤和波导耦合时的耦合损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 折射率 可调 光栅 耦合器 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种折射率可调的光栅耦合器的制作方法，其特征在于：光栅槽为不同横向占空比的亚波长结构，光栅为在纵向即x方向不同的x位置具有不同的横向即y方向占空比fy的光栅；光栅在纵向的占空比fx取值是在（0，1）之间的一个定值；构成纵向上不同x位置光栅槽的亚波长结构，其横向占空比fy的取值由输出高斯型场分布G(x)所需要的泄漏因子分布α(x)决定。
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