[发明专利]曝光装置与曝光方法

摘要

本发明提出了一种曝光装置与曝光方法，在曝光台上添加设有基板对准系统和调焦系统的测量主基板以及设有曝光系统驱动器、曝光系统组和光源的曝光主基板，基于脉冲光同步的虚拟掩模成像技术，解决了困扰无掩模光刻的分辨率与产率矛盾，在高分辨率的情况下实现高产能；将扫描与步进运动分离到不同的执行机构，节省了步进时间，使产率得到优化，同时节省了整机的空间尺寸；提出了流水线模式的光刻机架构，充分发挥无掩模光刻的灵活性，实现边测量边曝光，将调平、对准时间从光刻生产中分离出去，提高产能。

主权项

一种曝光装置，用于对设有标记的基板进行曝光处理，所述装置包括：曝光台，所述曝光台的表面设有基板台和基板台驱动机构，所述基板台驱动机构用于驱动所述基板台沿扫描方向移动，所述基板固定于所述基板台上，所述基板台沿步进方向设有基准板；测量主基板，所述测量主基板设有基板对准系统和调焦系统，所述测量主基板固定于所述曝光台的表面，并沿步进方向横跨于所述基板台驱动机构的上方，所述步进方向与扫描方向垂直，所述基板对准系统获取所述基准板和基板标记的位置，获得所述基板台与基板的相对位置关系，获得所述基板的栅格的参数；曝光主基板，所述曝光主基板设有曝光系统组和光源，所述曝光主基板固定于所述曝光台的表面，并沿步进方向横跨于所述基板台驱动机构的上方，所述曝光系统组和基板台之间可沿步进方向发生相对运动。