[发明专利]荧光X射线分析装置无效
申请号: | 201410111443.8 | 申请日: | 2014-03-24 |
公开(公告)号: | CN104076051A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 佐久田昌博;长谷川清;的场吉毅 | 申请(专利权)人: | 日本株式会社日立高新技术科学 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供荧光X射线分析装置,其能够检测载置于落下防止板上的异物。该荧光X射线分析装置具有:试样台,其在X射线照射位置处具有孔部,能够在孔部上设置试样;X射线源,其从下方对试样照射原级X射线(X1);检测器,其相对于孔部配置在下方,对从被照射原级X射线的试样产生的荧光X射线(X2)进行检测;透明的落下防止板,其以能够进退的方式支承在孔部的正下方;驱动机构,其使落下防止板进退;观察用照相机,其设置在孔部的下方,能够对位于孔部的正下方时的落下防止板进行观察;以及运算部,其对由观察用照相机拍摄到的落下防止板的图像进行处理,运算部根据落下防止板移动或振动前后的图像的差分,检测落下防止板上的异物。 | ||
搜索关键词: | 荧光 射线 分析 装置 | ||
【主权项】:
一种荧光X射线分析装置,该荧光X射线分析装置具有:试样台,其在X射线照射位置处具有孔部,能够在所述孔部上设置试样;X射线源,其从下方对设置在所述孔部上的所述试样照射原级X射线;以及检测器,其相对于所述孔部配置在下方,对从被照射所述原级X射线的所述试样产生的荧光X射线进行检测,所述荧光X射线分析装置的特征在于,具有:透明的落下防止板,其以能够进退的方式支承在所述孔部的正下方;驱动机构,其使所述落下防止板进退;观察用照相机,其设置在所述孔部的下方,能够对位于所述孔部的正下方时的所述落下防止板进行观察;以及运算部,其对由所述观察用照相机拍摄到的所述落下防止板的图像进行处理,所述运算部根据由所述驱动机构使所述落下防止板在所述观察用照相机的观察范围内移动或振动前后的所述图像的差分,检测所述落下防止板上的异物。
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