[发明专利]发光装置有效
申请号: | 201410105644.7 | 申请日: | 2014-03-20 |
公开(公告)号: | CN104934456B | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 龙浩;阳光 | 申请(专利权)人: | 联想(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 安之斐;赵碧洋 |
地址: | 100085*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明的实施例提供了一种发光装置。所示发光装置包括:衬底;绝缘层,具有网格结构,形成衬底上,多个发光二极管LED,其中每个发光二极管形成在网格结构的一个中空部分中,并且包含:N型GaN层,形成在中空部分中的衬底上,发光层,形成在N型GaN层上,P型GaN层,形成在发光层上;N电极,形成在N型GaN层上;P电极,形成在P型GaN层上;以及多个薄膜晶体管TFT,其中每个TFT形成在其中形成了与该TFT对应的LED的网格的侧壁上,并且该TFT的漏极与P电极相连接以控制发光二极管,TFT的栅极配置来接收扫描信号,以及TFT的源极配置来接收数据信号。 | ||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种发光装置包括:衬底;绝缘层,具有网格结构,形成所述衬底上,多个发光二极管(LED),其中每个所述发光二极管形成在所述网格结构的一个中空部分中,并且包含:N型GaN层,形成在所述中空部分中的所述衬底上,发光层,形成在所述N型GaN层上,P型GaN层,形成在所述发光层上;N电极,形成在所述N型GaN层上;P电极,形成在所述P型GaN层上;以及多个薄膜晶体管(TFT),与所述多个LED一一对应,其中每个所述TFT形成在其中形成了与该TFT对应的LED的网格的侧壁上,并且该TFT的漏极与所述P电极相连接以控制所述发光二极管,所述TFT的栅极配置来接收扫描信号,以及所述TFT的源极配置来接收数据信号;其中,每个所述TFT形成的侧壁与该TFT所示对应的LED的P电极之间的距离小于与该TFT所对应的LED的N电极之间的距离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的