[发明专利]一种曝光系统有效
| 申请号： | 201410099166.3 | 申请日： | 2014-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN103885299A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 史大为;郭建 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光系统。该曝光系统包括光源和载台，光源和载台相对设置，载台用于放置待曝光膜，光源发出的光线能对待曝光膜进行曝光，还包括厚度测量单元和光强调节单元，厚度测量单元和光强调节单元电连接；厚度测量单元用于测量不同区域的待曝光膜的厚度；光强调节单元用于根据不同区域的待曝光膜的厚度，对相应区域的待曝光膜的曝光光强进行调节。该曝光系统通过设置厚度测量单元和光强调节单元，能够改善由于不同区域的待曝光膜的厚度不均从而导致的经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸均一性差的问题，从而使得显示产品显示面板中各功能层的图形尺寸更加均一，进而使得显示产品的性能更加稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种曝光系统，包括光源和载台，所述光源和所述载台相对设置，所述载台用于放置待曝光膜，所述光源发出的光线能对所述待曝光膜进行曝光，其特征在于，还包括厚度测量单元和光强调节单元，所述厚度测量单元和所述光强调节单元电连接；所述厚度测量单元用于测量不同区域的所述待曝光膜的厚度；所述光强调节单元用于根据不同区域的所述待曝光膜的厚度，对相应区域的所述待曝光膜的曝光光强进行调节。
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