[发明专利]用于容纳后处理块的系统和方法

摘要

一种后处理系统包括后处理模块，该后处理模块具有在第一端与第二端之间延伸的套筒。一个或多个后处理块轴向地插入配置在套筒的第一端的套筒开口中。为了防止后处理块非故意地离开套筒，在套筒的第一端周围配置有作为松配合套环的卡环。该卡环由围绕第一端突出的周向压条约束在套筒上。该卡环可以与安置在第一端附近的挡圈联接。当联接到卡环时，挡圈的一部分部分地跨越套筒开口延伸并堵塞套筒开口，从而防止后处理块离开套筒。

主权项

1.一种后处理模块，包括：沿套筒轴线在第一端与对向的第二端之间延伸的至少一个套筒，所述至少一个套筒包括位于第一端的套筒开口和围绕套筒轴线径向向外突出的接近所述第一端的压条；框架，所述框架包括垂直于所述套筒轴线的平坦面，所述框架容纳所述至少一个套筒，使得所述第一端从所述平坦面延伸并且所述压条与所述平坦面轴向地隔开；插入所述至少一个套筒中的一个或多个后处理块，所述后处理块中的每一个都包括衬底基质和配置在所述衬底基质周围的壳罩；卡环，所述卡环配置在所述套筒周围并且轴向地定位在所述平坦面与所述压条之间；和挡圈，所述挡圈配置在所述第一端附近并与所述卡环联接，所述挡圈成形为使得所述挡圈的一部分配置在所述套筒开口的一部分的上方。