[发明专利]光学薄膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410067706.X 申请日: 2014-02-26
公开(公告)号: CN104015350B 公开(公告)日: 2018-03-20
发明(设计)人: 松村善仁 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B29C59/04 分类号: B29C59/04;C08J5/18;G02B1/10;G02B5/30
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种光学薄膜及其制造方法,即使将薄层的光学薄膜卷绕成卷状,也可防止卷偏或卷松,并且可防止黑带故障或薄膜变形故障。将薄膜厚度目标值TM(x)mm设为下式,即,TM(x)=-2R5W2(x-w2)2+TS+R10,]]>沿薄膜宽度方向每隔0.5mm对所制成的薄膜进行测定,将对其测定值进行绘图而连成的函数设为T(x)mm,以使T(x)处于TM(x)的(100±0.8)%的方式而对厚度分布进行调整。
搜索关键词: 光学薄膜 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光学薄膜的制造方法,包含如下步骤:将浓液自浇铸模具的前端挤出并浇铸于正在移动的浇铸带上,所述浓液在形成自我支撑性之后将其自所述浇铸带剥离,将经剥离的薄膜进行干燥,将所述薄膜的两侧端部赋予滚花,将所述薄膜进行切边加工,所述光学薄膜的制造方法的特征在于,包括如下步骤:当将自薄膜宽度方向的两端算起进入3mm的部位的厚度的平均值设为Ts mm,将自所述薄膜宽度方向的一端算起的位置设为x mm,将所述薄膜宽度设为W mm,将在所述薄膜两端经滚花加工而成的滚花的高度设为R mm时,将作为它们的函数而表示的薄膜厚度目标值TM(x)mm设为下式,即,TM(x)=-2R5W2(x-w2)2+TS+R10,]]>沿所述薄膜宽度方向每隔0.5mm对所制成的薄膜进行测定,将对其测定值进行绘图而连成的函数设为T(x)mm,以使T(x)处于TM(x)的(100±0.8)%的方式而对厚度分布进行调整。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410067706.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top