[发明专利]单轴抗压强度20—30MPa均质岩石模型及制备方法有效
| 申请号： | 201410057455.7 | 申请日： | 2014-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN103852357A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 张向阳;贺永胜;明治清;孔福利;丁幸波;陈安敏;庞伟宾;范俊奇 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军总参谋部工程兵科研三所 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 洛阳市凯旋专利事务所 41112 | 代理人： | 陆君 |
| 地址： | 471023 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明属于模拟均质岩石模型抗压技术领域，公开一种单轴抗压强度20—30MPa均质岩石模型及制备方法，包括：均质岩石上层模型体、合模层、均质岩石下层模型体和洞室，所述均质岩石上层模型体通过合模层与均质岩石下层模型体粘合连接构成均质岩石模型体，所述均质岩石模型体中心设置有圆柱形腔体的洞室。本发明的合模材料在硬化过程中吸收游离水分而自然干燥，无需烘干，适宜于大面积粘结。并且采用物理性质相同的脆性材料合模材料、模型材料，能够确保上、下半模型的破坏裂缝可以相互贯通连接，保证上、下半模型的破坏形态相同。 | ||
| 搜索关键词： | 抗压强度 20 30 mpa 岩石 模型 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种单轴抗压强度20—30MPa均质岩石模型，其特征在于：包括：均质岩石上层模型体（1）、合模层（3）、均质岩石下层模型体（2）和洞室（4），所述均质岩石上层模型体（1）通过合模层（3）与均质岩石下层模型体（2）粘合连接构成均质岩石模型体，所述均质岩石模型体中心设置有圆柱形腔体的洞室（4）。
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