[发明专利]图像处理方法、装置和电子设备

摘要

本发明公开了一种图像处理方法、装置和电子设备，属于图像处理领域。所述方法包括获取图像和图像中每个像素点的深度值；确定图像中的关注点；对于图像中的每一个像素点，根据像素点与关注点之间的距离以及像素点的深度值与关注点的深度值之间的差值确定像素点的类型，类型包括背景样本点和前景样本点；根据预定图像处理方式对背景样本点和/或前景样本点所对应的像素点进行处理。本公开解决了背景技术中涉及的背景虚化处理方式存在虚化区域确定不够合理，虚化效果欠佳的问题；达到了精确划分图像中的前景和背景，当本实施例提供的图像处理方法运用于背景虚化处理时，能够更加合理地确定虚化区域，提高虚化效果。

主权项

一种图像处理方法，其特征在于，所述方法包括：获取图像和所述图像中每个像素点的深度值；确定所述图像中的关注点；对于所述图像中的每一个像素点，根据所述像素点与所述关注点之间的距离确定所述像素点的空间接近度PS，根据所述像素点的深度值与所述关注点的深度值之间的差值确定所述像素点的深度接近度PD，并根据所述空间接近度PS与所述深度接近度PD得到所述像素点的最终接近度P，根据所述最终接近度P确定所述像素点的类型，所述类型包括背景样本点和前景样本点；根据预定图像处理方式对所述背景样本点和/或所述前景样本点所对应的像素点进行处理；其中，所述根据所述像素点与所述关注点之间的距离确定所述像素点的空间接近度PS，包括：计算所述像素点(xi，yi)与所述关注点(xL，yL)之间的距离S，所述距离S＝(xi‑xL)2+(yi‑yL)2；根据所述距离S、自然常数e以及第一经验值σ计算得到所述空间接近度PS，所述空间接近度PS＝e^[‑S/(2σ2)]＝e^{‑[(xi‑xL)2+(yi‑yL)2]/(2σ2)}；所述根据所述像素点的深度值与所述关注点的深度值之间的差值确定所述像素点的深度接近度PD，包括：计算所述像素点的深度值D(xi，yi)与所述关注点的深度值D(xL，yL)的差值R，所述差值R＝D(xi，yi)‑D(xL，yL)；根据所述差值R、自然常数e以及第二经验值δ计算得到所述深度接近度PD，所述深度接近度PD＝e^[‑R2/(2δ2)]＝e^{‑[D(xi，yi)‑D(xL，yL)]2/(2δ2)}；所述根据预定图像处理方式对所述背景样本点和/或所述前景样本点所对应的像素点进行处理，包括：根据第一预定图像处理方式对所述背景样本点所对应的像素点进行处理；或者，根据第一预定图像处理方式对所述背景样本点所对应的像素点进行处理，并且根据第二预定图像处理方式对所述前景样本点所对应的像素点进行处理；或者，根据第二预定图像处理方式对所述前景样本点所对应的像素点进行处理；其中，所述第一预定图像处理方式包括图像虚化处理，所述第二预定图像处理方式包括图像锐化处理。