[发明专利]基于激光光斑成像技术的三向位移量测方法有效
申请号: | 201410054963.X | 申请日: | 2014-02-18 |
公开(公告)号: | CN103837084B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 陈文华;王群敏;钟聪达;卢泳;吴勇;卢建军 | 申请(专利权)人: | 浙江华东工程安全技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/03 | 分类号: | G01B11/03 |
代理公司: | 杭州九洲专利事务所有限公司33101 | 代理人: | 韩小燕 |
地址: | 311122 浙江省杭州市余*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及基于激光光斑成像技术的三向位移量测方法。本发明的目的提供可实现三向位移同步量测的基于激光光斑成像技术的三向位移量测方法。本发明技术方案:1、两组激光发射器安装于参考点,激光光斑成像系统安装在位置Ⅰ;2、激光发射器向成像靶面发射光束,成像透镜将光束聚焦成光斑像,并成像光电器件接收该光斑像,信号处理单元通过图形处理算法找出两个光斑的中心点相对于成像系统的坐标位置,作为初始值;3、激光光斑成像系统移到位置Ⅱ,激光发射器向成像靶面发射光束,找出两个光斑的中心点相对于成像系统的坐标位置,作为测试值;4、测试值与初始值进行比较,计算水平和竖向位移;5、得出测点所在位置Ⅱ相对于位置Ⅰ的三向位移。 | ||
搜索关键词: | 基于 激光 光斑 成像 技术 位移 方法 | ||
【主权项】:
一种基于激光光斑成像技术的三向位移量测方法,其特征在于:包括两组激光发射器(1),以及一激光光斑成像系统,所述激光光斑成像系统包括成像靶面(2)、成像透镜、成像光电器件和信号处理单元;步骤如下:1.1、将两组激光发射器(1)安装于参考点O,将激光光斑成像系统安装在测点所在位置Ⅰ;1.2、用激光发射器(1)向测点所在位置Ⅰ的成像靶面(2)发射光束,用成像透镜将光束聚焦成光斑像,并用成像光电器件接收该光斑像,信号处理单元通过图形处理算法找出两个光斑的中心点相对于成像系统的坐标位置,作为初始值;1.3、将激光光斑成像系统随测点移动到位置Ⅱ,用激光发射器(1)向测点的成像靶面(2)发射光束,用成像透镜将光束聚焦成光斑像,并用成像光电器件接收该光斑像,信号处理单元通过图形处理算法找出两个光斑的中心点相对于成像系统的坐标位置,作为测试值;1.4、将两个光斑像的坐标位置测试值与两个光斑像的坐标位置初始值进行比较,计算出两个光斑像的水平位移和竖向位移;1.5、根据两个光斑像的水平位移和竖向位移,根据几何关系,得出测点所在位置Ⅱ相对于位置Ⅰ的三向位移测量结果;两组激光发射器中一组发射与水平向成α角的激光束OA,另一组发射与水平向成β角的激光束OB,且0°≤α<β<90°,OA和OB激光束的激光斑点在成像靶面的中心位置分别为A点和B点;成像靶面与水平面有一定的夹角γ,其中γ的范围为:0°<γ≤90°;所述成像光电器件为CCD或CMOS光电转换器件;所述信号处理单元采用FPGA芯片处理图像信息,通过图形处理算法确认光斑中心相对于成像系统的坐标位置,所述的成像系统的坐标位移采用成像靶面(2)的局部坐标系统;所述的图形处理算法包括斑点坐标平均法、斑点分布椭圆形拟合法和斑点外包络矩形法。
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