[发明专利]自动静态连续制备光纤光栅阵列的装置与方法在审
申请号: | 201410047263.8 | 申请日: | 2014-02-11 |
公开(公告)号: | CN103777270A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 唐健冠;郭会勇;程乘;余海湖;何伟;姜德生;陈宏利 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学;武汉华之洋光电系统有限责任公司 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 周艳红 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 一种自动静态连续制备光纤光栅阵列的装置,包括沿光纤运行方向依次设置的:光纤放线模块,包括绕线盘;涂覆层剥除模块,包括依次设置的CO2脉冲激光器、第一反射镜、第二反射镜、聚焦透镜和柱面反射镜;光栅刻写模块,包括准分子激光器和相位掩膜板;涂覆模块,包括自动紫外光涂覆装置;收纤模块,包括自动光纤收纤装置。一种自动静态连续制备光纤光栅阵列的方法,针对未载氢的普通光纤,在光纤收放线的过程中:1)利用窄脉冲红外光局部剥除其涂覆层;2)移动剥除涂覆层的光纤部分至准分子激光器处进行刻写;3)将刻写完成后的光纤部分移动至紫外光涂覆设备处进行紫外光涂覆和固化;4)重复步骤1)至3)刻写多个光纤光栅,构成光纤光栅阵列。 | ||
搜索关键词: | 自动 静态 连续 制备 光纤 光栅 阵列 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种自动静态连续制备光纤光栅阵列的装置,其特征在于:它包括沿光纤运行方向依次设置的光纤放线模块(I)、涂覆层剥除模块(II)、光栅刻写模块(III)、涂覆模块(IV)和收纤模块(V);所述光纤放线模块(I)包括绕制有待处理光纤的绕线盘(1);所述涂覆层剥除模块(II)包括依次设置的CO2脉冲激光器(3)及其驱动模块、第一反射镜(5)、第二反射镜(6)、聚焦透镜和柱面反射镜(9),第一反射镜(5)和第二反射镜(6)平行设置,用于实现CO2脉冲激光器(3)输出光光轴的平移,所述聚焦透镜和柱面反射镜(9)位于光纤的两侧,分别用于使聚焦后的激光和反射的激光到达光纤两侧的表面,实现涂覆层的剥除,所述第二反射镜(6)和聚焦透镜位于可移动平台上,可沿光纤延伸方向平移;所述光栅刻写模块(III)包括准分子激光器和相位掩膜板(12);所述涂覆模块(IV)包括自动紫外光涂覆装置(14);所述收纤模块(V)包括自动光纤收纤装置(15)。
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