[发明专利]一种TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层及其制备方法有效
申请号: | 201410044737.3 | 申请日: | 2014-02-07 |
公开(公告)号: | CN103757597A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 李伟;王建鹏;刘平;马凤仓;刘新宽;陈小红;何代华 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吴宝根;马文峰 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开一种TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层及制备方法。所述TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层由纳米复合结构的CrAlSiN层和TiN层交替沉积在基体上形成,靠近基体的一层为TiN层,最上层为纳米复合结构的CrAlSiN层;所述TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层厚度为2.0-3.2μm,所述纳米复合结构的CrAlSiN层厚度为1.2nm,所述的TiN层厚度为6.0nm。其制备方法包括清洗基体和交替溅射CrAlSiN层和TiN层等2个步骤。该TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层硬度较高,当Si与CrAl的原子比,即Si:CrAl为5:20时,其硬度高达39.7GPa。 | ||
搜索关键词: | 一种 tin cralsin 纳米 复合 多层 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层,其特征在于所述的TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层由纳米复合结构的CrAlSiN层和TiN层交替沉积在基体上形成的,靠近基体的一层为TiN层,最上层为纳米复合结构的CrAlSiN层;所述的TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层厚度为2.0‑3.2μm,所述纳米复合结构的CrAlSiN层厚度为1.2nm,所述的TiN层厚度为6.0nm;所述基体为金属、硬质合金或陶瓷。
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