[发明专利]一种TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410044737.3 申请日: 2014-02-07
公开(公告)号: CN103757597A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 李伟;王建鹏;刘平;马凤仓;刘新宽;陈小红;何代华 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根;马文峰
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层及制备方法。所述TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层由纳米复合结构的CrAlSiN层和TiN层交替沉积在基体上形成,靠近基体的一层为TiN层,最上层为纳米复合结构的CrAlSiN层;所述TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层厚度为2.0-3.2μm,所述纳米复合结构的CrAlSiN层厚度为1.2nm,所述的TiN层厚度为6.0nm。其制备方法包括清洗基体和交替溅射CrAlSiN层和TiN层等2个步骤。该TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层硬度较高,当Si与CrAl的原子比,即Si:CrAl为5:20时,其硬度高达39.7GPa。
搜索关键词: 一种 tin cralsin 纳米 复合 多层 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
一种TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层,其特征在于所述的TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层由纳米复合结构的CrAlSiN层和TiN层交替沉积在基体上形成的,靠近基体的一层为TiN层,最上层为纳米复合结构的CrAlSiN层;所述的TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层厚度为2.0‑3.2μm,所述纳米复合结构的CrAlSiN层厚度为1.2nm,所述的TiN层厚度为6.0nm;所述基体为金属、硬质合金或陶瓷。
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