[发明专利]一种刻蚀设备反应腔的电极和刻蚀设备无效
| 申请号： | 201410022519.X | 申请日： | 2014-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN103779166A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 蒋会刚;肖红玺;谢海征;高建剑;高福亮;蒋晓纬 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种刻蚀设备反应腔的电极和刻蚀设备，属于显示装置制造技术领域，其可解决现有的干法刻蚀设备的电极孔发生堵塞时需要把电极整体拆下且拆卸又极其繁琐的问题。本发明的刻蚀设备反应腔的电极包括一平板，平板上设有多个第一通孔，所述电极还包括多个具有第二通孔的嵌入件，所述嵌入件嵌入所述第一通孔内。本发明的刻蚀设备包括上述刻蚀设备反应腔的电极。本发明能够使刻蚀设备反应腔的电极的维护更为省时省力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 设备 反应 电极 | ||
【主权项】：
一种刻蚀设备反应腔的电极，包括一平板，平板上设有多个第一通孔，其特征在于，所述电极还包括多个具有第二通孔的嵌入件，所述嵌入件嵌入所述第一通孔内。
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