[发明专利]照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法有效
申请号: | 201410018301.7 | 申请日: | 2008-10-23 |
公开(公告)号: | CN103777363B | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 谷津修 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B27/28 | 分类号: | G02B27/28;G02B27/09;G02B26/08;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 陈伟 |
地址: | 日本东京都千代*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种照明光学设备具有光学单元(3)。所述光学单元具有分光器(35),用以使入射射束分裂成两个射束;第一空间光调制器(33),其可布置于第一射束的光学路径中;第二空间光调制器(34),其可布置于第二射束的光学路径中;和光组合器(36),其将已通过所述第一空间光调制器的射束与已通过所述第二空间光调制器的射束组合;所述第一空间光调制器和所述第二空间光调制器中的每一者具有二维地布置且个别地被控制的多个光学元件(33a、34a)。 | ||
搜索关键词: | 照明 光学 设备 曝光 方法 装置 制造 | ||
【主权项】:
一种照明光学设备,使照明光对于形成有图案的掩膜进行照明,所述照明光学设备的特征在于包括:空间光调制器,含有:沿预定表面布置且设置在所述照明光的光路中的多个反射表面,对于所述多个反射表面进行个别控制,使所述照明光分布于所述照明光学设备的照明光瞳;分光器,配置于所述空间光调制器的入射侧的所述照明光的光路中,使所述多个反射表面的所述照明光的强度进行均匀化,所述分光器将所述照明光分为第1光束和第2光束;以及偏振单元,配置于所述分光器与所述空间光调制器之间的所述照明光的光路中,将以线性偏振光作为主成分的所述照明光的偏振状态,从以偏振方向为预定一方向的线性偏振光作为主成分的偏振状态、变换成含有偏振方向为互相不同的第1线性偏振光与第2线性偏振光的偏振状态;所述偏振单元包括将所述第1光束变换为以所述第1线性偏振光为主成分的偏振状态的第1偏振单元和将所述第2光束变换为以所述第2线性偏振光为主成分的偏振状态的第2偏振单元,所述空间光调制器包括第一空间光调制器和第二空间光调制器,所述第一空间光调制器以使来自所述第1偏振单元的所述照明光中的所述第1光束在所述照明光瞳中夹着所述照明光学设备的光轴而在第1方向上对称分布的方式反射所述第1光束,所述第二空间光调制器以使来自所述第2偏振单元的所述照明光中的所述第2光束在所述照明光瞳中夹着所述照明光学设备的光轴而在第2方向上对称分布的方式反射所述第2光束,所述第2方向是与所述第1方向正交的方向。
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