[发明专利]具有气体供应的沉积装置及沉积材料的方法无效
| 申请号： | 201380073525.1 | 申请日： | 2013-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN105051242A | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | T·W·齐尔鲍尔;M·班德尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/22;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了一种用于在基板(310)上沉积材料的装置。装置包括真空腔室(300)；基板接收部(305)，基板接收部(305)位于真空腔室中，用以在沉积材料的期间内接收基板；靶材支撑件(320)，靶材支撑件(320)用以在沉积材料于基板(305)上的期间内固持靶材(330)；等离子体产生装置，等离子体产生装置位于真空腔室(300)中，用以于基板接收部(305)与靶材支撑件(320)之间产生等离子体；以及第一气体入口(360)，第一气体入口(360)用以提供气体超音速流(365)，其中所述第一气体入口是导向基板接收部(305)。再者，还描述了一种在真空腔室(300)中沉积材料于基板(310)上的方法。所述方法包括于基板(310)与靶材(330)之间形成等离子体、利用等离子体从靶材(330)释出粒子(335)，以及导引第一气体的超音速流(365)朝向基板的表面，所述材料将被沉积于基板的表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 气体 供应 沉积 装置 材料 方法 | ||
【主权项】：
一种用以在基板(110；310)上沉积材料的装置，包括：真空腔室(100；300)；基板接收部(105；305)，位于所述真空腔室(100；300)中，所述基板接收部用以在沉积所述材料的期间内接收所述基板(110；310；410)；靶材支撑件(120；320)，配置以在沉积所述材料于所述基板(110；310；410)上的期间内固持靶材(130；330；430)；等离子体产生装置，位于所述真空腔室(100；300)中，用以于所述基板接收部(105；305)与所述靶材支撑件(120；320)之间产生等离子体(455)；以及第一气体入口(160；360)，用以提供气体超音速流，其中所述第一气体入口是导向所述基板接收部(105；305)。
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