[发明专利]液浸部件及曝光装置有效
| 申请号: | 201380073365.0 | 申请日: | 2013-12-25 |
| 公开(公告)号: | CN105144342B | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
| 发明(设计)人: | 佐藤真路 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 液浸部件在液浸曝光装置中使用,能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间。液浸部件具有:第1部件,其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分,在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与物体的表面相对的第1液体供给部;和第2部件,其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部,能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动。 | ||
| 搜索关键词: | 部件 曝光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种液浸部件,在液浸曝光装置中使用,能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间,其特征在于,具有:第1部件,其包含配置在所述曝光用光的光路周围的第1部分,在所述第1部分上设有能够供所述曝光用光通过的第1开口部、及配置在所述第1开口部的周围的至少一部分上且能够与所述物体的表面相对的第1液体供给部;和第2部件,其具有能够与所述物体的表面相对的第1液体回收部,能够相对于所述光路在所述第1部分的外侧相对于所述第1部件移动,所述液浸空间的一部分形成于所述第2部件与所述物体之间,所述第1液体回收部回收所述第2部件与所述物体之间的液体的至少一部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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