[发明专利]用于控制光学波阵面的相位的器件在审
申请号: | 201380068702.7 | 申请日: | 2013-11-29 |
公开(公告)号: | CN105026980A | 公开(公告)日: | 2015-11-04 |
发明(设计)人: | 昆汀·勒文斯克;帕特里克·布雄;海德尔·里亚德;法布里斯·帕多 | 申请(专利权)人: | 法国宇航院 |
主分类号: | G02B26/06 | 分类号: | G02B26/06;B82Y20/00;G02B6/10 |
代理公司: | 北京金思港知识产权代理有限公司 11349 | 代理人: | 邵毓琴;李晶 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 根据一个方面,本发明涉及一种用于控制具有给使用光谱带中的波长的入射光学波阵面的相位的器件(20、50),该器件包括在所述光谱带中至少部分透明的基板(21),以及被布置为与所述基板的表面基本垂直的片组(22i、23i、24i),其特征在于:所述片组包括交替的并列片,所述并列片分别由金属材料(22i)、由第一电介质材料(23i)以及至少一种不同于所述第一电介质材料的第二电介质材料(24i)制成,以便形成亚波长宽度(wi)的并列的金属/多电介质/金属(MmultiDM)结构(Si),每个结构形成具有一种或多种传播模式的腔体;-在每个所述MmultiDM结构中调整由第一电介质材料制成的片和由多种第二电介质材料制成的片各自的厚度,以引起所述波阵面的相位的局部偏移(ΔΦi),所述局部相位偏移取决于能够在所述腔体中传播的所述一种模式或多种模式的有效指数。 | ||
搜索关键词: | 用于 控制 光学 波阵面 相位 器件 | ||
【主权项】:
一种用于控制具有在给定的使用光谱带中的波长的入射光学波阵面的相位的器件(20、50),包括在所述光谱带中至少部分透明的基板(21)、以及被布置为与所述基板的表面基本上成直角的片组(22i、23i、24i),其特征在于:‑所述片组包括交替的并列片,所述并列片分别由金属材料(22i)、第一电介质材料(23i)以及至少一种不同于所述第一电介质材料的第二电介质材料(24i)制成,以便形成亚波长宽度(wi)的并列金属‑多电介质‑金属(MmultiDM)结构(Si),每个结构形成表现出一种或多种传播模式的腔体;‑在每个所述MmultiDM结构中调整由第一电介质材料制成的片和由多种第二电介质材料制成的片各自的厚度以引起所述波阵面的相位的局部偏移(ΔΦi),所述局部相位偏移取决于能够在所述腔体中传播的所述一种模式或多种模式的有效指数。
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